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J-GLOBAL ID:200903019674658077
反射防止膜およびその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
坂本 栄一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993188431
Publication number (International publication number):1995081977
Application date: Jul. 29, 1993
Publication date: Mar. 28, 1995
Summary:
【要約】【構成】ガラス基材の両面や片面に、基材側から第1層目として屈折率が1.65〜1.9で光学膜厚が0.15〜0.6λ(λは中心となる波長である)の薄膜、第2層目として屈折率が1.9〜2.3で光学膜厚が0.15〜0.6λの薄膜、最外表層である第3層目として屈折率が1.4〜1.65で光学膜厚が0.2〜0.8λの薄膜を順次積層し3層の光学多層膜で成り、しかも第1層目乃至第3層目の各層膜中に少なくともSiO2 を含有し、最外表層である第3層目がSiO2 、SnO2 及びZrO2 の3成分系でなる反射防止膜。更に第3層目の薄膜が、mol%表示で、SiO2 :SnO2 :ZrO2 =60〜80:10〜1:30〜19でなる反射防止膜。【効果】膜構成が単純で、かつ膜形成用原料薬液のポットライフ(使用可能期間)が充分あるため、生産性、コスト性に優れ、耐摩耗性、耐擦傷性及び耐アルカリ性等耐久性が格段に優れ、今まで使用できなかった広い分野で使用できる。
Claim (excerpt):
ガラス基材の両面もしくは片面に、基材側から空気側に向って第1層目として屈折率が1.65〜1.9で光学膜厚が0.15〜0.6λ(λは中心となる波長である)の薄膜、第2層目として屈折率が1.9〜2.3で光学膜厚が0.15〜0.6λの薄膜、最外表層である第3層目として屈折率が1.4〜1.65で光学膜厚が0.2〜0.8λの薄膜を順次積層し3層の光学多層膜で成り、しかも前記第1層目乃至第3層目の各層膜中に少なくともSiO2 を含有せしめるとともに、最外表層である第3層目がSiO2 、SnO2 およびZrO2 の3成分系でなることを特徴とする反射防止膜。
IPC (7):
C03C 17/34
, B32B 17/06
, B60J 1/00
, C03C 17/25
, C23C 18/12
, G02B 1/10
, G02B 1/11
FI (2):
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