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J-GLOBAL ID:200903019714353657

窒素処理方法及び窒素処理システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 雨笠 敬
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001050734
Publication number (International publication number):2002248474
Application date: Feb. 26, 2001
Publication date: Sep. 03, 2002
Summary:
【要約】【課題】 希薄塩素イオン条件下でも効率的に低濃度の窒素化合物も除去を行うことができると共に、装置の小型化及びコストの低減を図ることができる窒素化合物の窒素処理方法を提唱する。【解決手段】 本発明は、電気化学的手法により被処理水中の窒素化合物を処理する方法であって、カソード6を構成する金属材料として、周期表の第Ib族又は第IIb族を含む導電体、若しくは、同族を導電体に被覆したものを用いる。また、カソード6とアノード5の間に、酸素気泡の通過を阻止し、且つ、アノード5側に流水の影響を受けない構造とすると共に、イオンの通過は許容する遮蔽部材9を配置する。
Claim (excerpt):
電気化学的手法により被処理水中の窒素化合物を処理する方法であって、カソードを構成する金属材料として、周期表の第Ib族又は第IIb族を含む導電体、若しくは、同族を導電体に被覆したものを用いることを特徴とする窒素処理方法。
IPC (2):
C02F 1/461 ,  C02F 1/46 ZAB
FI (2):
C02F 1/46 ZAB ,  C02F 1/46 101 A
F-Term (14):
4D061DA08 ,  4D061DB19 ,  4D061DC14 ,  4D061EA04 ,  4D061EB01 ,  4D061EB04 ,  4D061EB12 ,  4D061EB19 ,  4D061EB27 ,  4D061EB28 ,  4D061EB29 ,  4D061EB30 ,  4D061EB31 ,  4D061EB35
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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