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J-GLOBAL ID:200903019732836029

アクチュエータ及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西川 惠清 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001082862
Publication number (International publication number):2002276541
Application date: Mar. 22, 2001
Publication date: Sep. 25, 2002
Summary:
【要約】【課題】 長期に亘って線材を保護することができると共に電気絶縁性を確保することができ、しかも伸縮特性が向上するアクチュエータを提供する。【解決手段】 形状記憶合金の線材1をメッシュ状に編組して形成されるアクチュエータに関する。形状記憶合金の線材1の外周に、耐摩耗性が高く、電気絶縁性が高く、摩擦係数が小さいDLC皮膜2を形成する。
Claim (excerpt):
形状記憶合金の線材をメッシュ状に編組して形成されるアクチュエータにおいて、形状記憶合金の線材の外周にDLC(Diamond Like Carbon)の皮膜を形成して成ることを特徴とするアクチュエータ。
IPC (5):
F03G 7/06 ,  B81B 3/00 ,  B81C 1/00 ,  C23C 14/06 ,  C23C 16/27
FI (5):
F03G 7/06 E ,  B81B 3/00 ,  B81C 1/00 ,  C23C 14/06 F ,  C23C 16/27
F-Term (19):
4K029AA02 ,  4K029AA23 ,  4K029BA34 ,  4K029BA46 ,  4K029BC02 ,  4K029BD03 ,  4K029CA05 ,  4K029FA04 ,  4K029FA07 ,  4K029JA10 ,  4K029KA03 ,  4K030AA09 ,  4K030BA28 ,  4K030CA02 ,  4K030CA13 ,  4K030DA03 ,  4K030FA01 ,  4K030GA14 ,  4K030LA11
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)

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