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J-GLOBAL ID：200903019738026525
干渉測定装置および干渉測定方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
増田 達哉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994261231
Publication number (International publication number)：1995167630
Application date： Sep. 29, 1994
Publication date： Jul. 04, 1995
Summary：
【要約】【構成】干渉測定装置1aは、フィゾー型干渉計2aと、撮像部11と、画像処理装置12と、演算手段13と、モニター装置14と、データ専用メモリー15とを有している。前記干渉計2aは、光源3と、対物レンズ4と、コリメートレンズ5と、ハーフミラー6と、原器レンズ7と、駆動手段711と、移動手段9と、観測レンズ10とを有している。被検物8の被検面81の収差測定では、演算手段13は、干渉縞解析により得られた値を波面収差を表す近似多項式に展開し、各項に相当する値を求め、ディフォーカスにより生じる2次の収差成分より、4次以上の軸対称収差を補正する。【効果】被検物の収差測定において、ディフォーカスがある場合でも高精度の測定を行なうことができる。
Claim (excerpt)：
光源からの光を二つに分割して一方を参照面からの参照光とし、他方を被検物からの被検光とし、該参照光と該被検光とを重ね合わせて干渉縞を得るとともに、前記干渉縞に基づいて前記参照光と前記被検光との間の位相差を検出する干渉測定装置であって、前記干渉縞を、前記位相差を特定する近似多項式に展開する第1の手段と、前記被検物の被検領域に入射または前記被検物の被検領域から出射する有効な光束の開口数に基づいて、前記被検物の前記干渉測定装置に対する設定位置誤差に起因して前記近似多項式の特定項に現れる誤差情報を演算する第2の手段と、前記第2の手段によって得た前記誤差情報および前記開口数に基づいて、前記第1の手段によって得た近似多項式における位相差を特定する項の係数を補正する第3の手段とを有することを特徴とする干渉測定装置。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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