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J-GLOBAL ID：200903019796941195

多孔性チタノシリケート及びその製造方法

Inventor： 小菅 勝典 ,  プヤン ソビンドロ シン
Applicant, Patent owner： 工業技術院長 ,  小菅 勝典
Agent (1)： 工業技術院資源環境技術総合研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997158073
Publication number (International publication number)：1998330111
Application date： May. 30, 1997
Publication date： Dec. 15, 1998
Summary：

【要約】【課題】 高活性な酸化触媒能を有する多孔性チタノシリケート及びその製造方法と、その中間体となる均質透明ゲルを提供する。【解決手段】 シリカ骨格中のSiの3〜25モル%をTiで同形置換した構造を有する多孔性チタノシリケート。前記多孔性チタノシリケートを製造する方法において、Si-アルコキシドとTi-アルコキシドとをモル比1:0.02〜0.27で混合したアルコキシド混合物に、液状アルキルアミンと水との混合液を、アルコキシド1モル当り、水0.5〜1.5モルの割合で滴下混合し、得られた均質透明ゲルを熟成し、乾燥し、次いで焼成することを特徴とする前記方法。Si-アルコキシドとTi-アルコキシドとをモル比1:0.02〜0.27で混合したアルコキシド混合物に、液状アルキルアミンと水との混合液を、アルコキシド1モル当り、水0.5〜1.5モルの割合で滴下混合することにより得られる均質透明ゲル。

Claim (excerpt)：

シリカ骨格中のSiの3〜25モル%をTiで同形置換した構造を有する多孔性チタノシリケート。