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J-GLOBAL ID：200903019805981219

電気光学装置の作製方法

Inventor： 山崎 舜平 ,  小山 潤 ,  山本 一宇 ,  小沼 利光
Applicant, Patent owner： 株式会社半導体エネルギー研究所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000166763
Publication number (International publication number)：2001052864
Application date： Jun. 02, 2000
Publication date： Feb. 23, 2001
Summary：

【要約】【課題】 動作性能および信頼性の高いEL表示装置を提供する。【解決手段】 画素電極(陽極)46、EL層47及び陰極48でなるEL素子203の下には第3パッシベーション膜45が設けられ、インクジェット方式で形成されたEL素子203中のアルカリ金属がTFT側へ拡散するのを防ぐ。さらに第3パッシベーション膜45はTFT側からの水分や酸素の侵入を防ぎ、EL素子203で発生した熱を分散させてEL素子203の劣化を抑制する。

Claim (excerpt)：

基板上に複数のTFTを形成する工程と、前記複数のTFTの各々に接続された複数の画素電極を形成する工程と、前記複数の画素電極の上にEL層を形成する工程と、を有し、前記EL層はインクジェット方式により選択的に形成されることを特徴とする電気光学装置の作製方法。

IPC (6)：

H05B 33/10 ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 365 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22

FI (6)：

H05B 33/10 ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 365 Z ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/22 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• アクティブマトリックス型有機EL表示体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-158671   Applicant：セイコーエプソン株式会社
• 表示装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-329825   Applicant：三洋電機株式会社
• 特開平1-186589
  
• 特開平2-265194