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J-GLOBAL ID：200903019864807796
電子線照射装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山本 惠二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997219899
Publication number (International publication number)：1999052100
Application date： Jul. 31, 1997
Publication date： Feb. 26, 1999
Summary：
【要約】【課題】 多数の顆粒状物の全体に満遍無く、しかも各顆粒状物のほぼ全表面に、低エネルギーの電子線を照射することができる電子線照射装置を提供する。【解決手段】 この電子線照射装置は、多数の顆粒状物2を薄幕状に落下させる顆粒状物供給装置30と、薄幕状に落下する顆粒状物2の左右両側に設けられていて、薄幕状に落下する顆粒状物2にその左右両側から200keV以下のエネルギーの電子線54をそれぞれ照射する2台の電子線加速器50とを備えている。更に、薄幕状に落下する顆粒状物2に沿う下降気流46を形成する下降気流形成装置40を備えている。各電子線加速器50は、複数列の照射窓52を有している。
Claim (excerpt)：
多数の顆粒状物を薄幕状に落下させる顆粒状物供給装置と、薄幕状に落下する顆粒状物の左右両側に設けられていて、薄幕状に落下する顆粒状物にその左右両側から200keV以下のエネルギーの電子線をそれぞれ照射する第1および第2の電子線加速器とを備えることを特徴とする電子線照射装置。
IPC (2)：
FI (2)：
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