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J-GLOBAL ID：200903019942383469

シリカ微小球状粒子とその製造方法

Inventor：
有馬 悠策

About 有馬 悠策

, 
大浜 孝一

About 大浜 孝一


Applicant, Patent owner：
触媒化成工業株式会社

About 触媒化成工業株式会社


Agent (1)： 友松 英爾 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996354101
Publication number (International publication number)：1997315813
Application date： Dec. 18, 1996
Publication date： Dec. 09, 1997
Summary：
【要約】【課題】 リンやホウ素を含むことがなく、また高温度で焼成することなく、比表面積が小さく、細孔容積が小さく、嵩比重が高いシリカ微小球状粒子を製造する新規な方法の提供。【解決手段】 下記(a)(b)(c)の少なくとも3種のシリカゾルを混合し、得られた混合物を噴霧乾燥することを特徴とするシリカ微小球状粒子の製造方法および該製造方法により得られたシリカ微小球状粒子。(a)シリカコロイド粒子の平均粒子径(Da)が10nmより小さい範囲にあるシリカゾル、(b)シリカコロイド粒子の平均粒子径(Db)が10nm以上であるシリカゾルおよび(c)シリカコロイド粒子の平均粒子径(Dc)が(Dc)/(Db)の粒子径比で2〜20の範囲にあるシリカゾル。
Claim (excerpt)：
下記(a)(b)(c)の少なくとも3種のシリカゾルを混合し、得られた混合物を噴霧乾燥することを特徴とするシリカ微小球状粒子の製造方法。(a)シリカコロイド粒子の平均粒子径(Da)が10nmより小さい範囲にあるシリカゾル、(b)シリカコロイド粒子の平均粒子径(Db)が10nm以上であるシリカゾルおよび(c)シリカコロイド粒子の平均粒子径(Dc)が(Dc)/(Db)の粒子径比で2〜20の範囲にあるシリカゾル。
IPC (2)：
C01B 33/18 ,  B01J 2/02
FI (2)：
C01B 33/18 D ,  B01J 2/02 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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