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J-GLOBAL ID：200903019976371109

酸化ニオブ焼結体とその製造方法及びこれを用いたスパッタリングターゲット

Inventor： 齋藤 渉
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001149144
Publication number (International publication number)：2002338354
Application date： May. 18, 2001
Publication date： Nov. 27, 2002
Summary：

【要約】【課題】破損が発生しやすく、相対密度が小さい。【解決手段】酸化ニオブ含有量が99.9重量%以上、相対密度が90%以上及び平均結晶粒子径が5〜20μmとする。

Claim (excerpt)：

酸化ニオブ含有量が99.9重量%以上、相対密度が90%以上及び平均結晶粒径が5〜20μmであることを特徴とする酸化ニオブ焼結体。

IPC (3)：

C04B 35/495 ,  C23C 14/34 ,  H04N 5/72

FI (3)：

C23C 14/34 A ,  H04N 5/72 A ,  C04B 35/00 J

F-Term (10)：

4G030AA20 ,  4G030BA01 ,  4G030CA04 ,  4G030GA11 ,  4G030GA29 ,  4K029BC08 ,  4K029CA05 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  5C058DA01