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J-GLOBAL ID：200903019986693562
超純水供給装置及び基体洗浄方法並びに超純水製造装置及び超純水製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991320885
Publication number (International publication number)：1993136114
Application date： Nov. 08, 1991
Publication date： Jun. 01, 1993
Summary：
【要約】【目的】 洗浄液による汚染がなく、微細かつ高アスペクト比のトレンチまたは孔の内部の、極微量の不純物をも洗浄除去することが可能な基体洗浄方法及び洗浄に用いる超純水を得ることができる超純水製造装置及び超純水製造方法並びに超純水製造装置及び超純水製造方法を提供することを目的とする。【構成】 ユースポイントに所定の超純水を供給するための配管7の途中に、第1の超純水を加熱して第1の水蒸気にするための水蒸気発生手段1と、前記第1の水蒸気をさらに加熱して前記第1の水蒸気よりも高温の第2の水蒸気とするための水蒸気加熱手段3と、前記第2の水蒸気を冷却して第2の超純水とするための冷却手段5とを配設したことを特徴とする。
Claim (excerpt)：
【請求項l】 ユースポイントに所定の超純水を供給するための配管の途中に、第1の超純水を加熱して第1の水蒸気にするための水蒸気発生手段と、前記第1の水蒸気をさらに加熱して前記第1の水蒸気よりも高温の第2の水蒸気とするための水蒸気加熱手段と、前記第2の水蒸気を冷却して第2の超純水とするための冷却手段とを配設したことを特徴とする超純水供給装置。
IPC (2)：
H01L 21/304 341
, C02F 1/04
