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J-GLOBAL ID：200903020067073408
ポジ型ホトレジスト組成物
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993283579
Publication number (International publication number)：1994208222
Application date： Nov. 12, 1993
Publication date： Jul. 26, 1994
Summary：
【要約】【構成】 アルカリ可溶性ノボラック型樹脂と、ナフトキノン-1,2-ジアジドスルホン酸のエステル化合物と、式【化1】(式中のR1は炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数7〜10のアラルキル基)又は式【化2】(式中のR2は炭素数1〜5のアルキル基、nは1〜5の整数)で表わされるフェノール系化合物とを含有して成るポジ型ホトレジスト組成物である。【効果】 感度、解像性、焦点深度及び耐熱性などの特性に優れるとともに、定在波効果の抑制された、すなわち照射光と基板からの反射光との干渉による影響が抑制されたパターン形状にも優れる。
Claim (excerpt)：
(A)アルカリ可溶性ノボラック型樹脂と、(B)ナフトキノン-1,2-ジアジドスルホン酸のエステル化合物と(C)一般式【化1】(式中のR1は炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数7〜10のアラルキル基である)で表わされるフェノール系化合物の中から選ばれた少なくとも1種とを含有して成るポジ型ホトレジスト組成物。
IPC (3)：
G03F 7/022
, G03F 7/004 506
, H01L 21/027
Cited by examiner (3)
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ポジ型感放射線性レジスト組成物
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平4-042974
Applicant：富士通株式会社
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ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平4-165345
Applicant：日本ゼオン株式会社
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特開昭58-080636
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