Pat

J-GLOBAL ID：200903020068315928

レジストのベーキング方法

Inventor： 福川 敏巳
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991227577
Publication number (International publication number)：1993066571
Application date： Sep. 09, 1991
Publication date： Mar. 19, 1993
Summary：

【要約】【目的】 レジストのベーキング方法, 特に多層レジストのベーキング方法に関し,基板の汚染および基板搬送系への熱影響の抑制とを目的とする。【構成】 1)レジストを塗布した基板を間隔をあけてホットプレート上に載せ,該間隔を調節して該基板の昇温時間を所定の値に設定して,基板当たり1枚のホットプレートで該基板の加熱を行う。2)前記レジストが,多層レジストの下層レジストとスピンオングラス(SOG) からなる中間層であることを特徴とする。3)前記ホットプレートを複数個用いて,基板の並行加熱を行うように構成する。

Claim (excerpt)：

レジストを塗布した基板をホットプレート表面に平行にかつ一定距離離して該ホットプレート上に載せ,該一定距離の間隔を調節して該基板の昇温時間を所定の値に設定して,基板当たり1枚のホットプレートで該基板の加熱を行うことを特徴とするレジストのベーキング方法。

IPC (2)：

G03F 7/38 501 ,  H01L 21/027