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J-GLOBAL ID：200903020130395984

光触媒性酸化チタン膜の成膜方法

Inventor： 平岡 純治 ,  原賀 久人 ,  重里 有三 ,  佐藤 大祐 ,  鈴木 巧一 ,  小島 啓安
Applicant, Patent owner： 東陶機器株式会社 ,  株式会社サーフテックトランスナショナル ,  重里 有三
Agent (1)： 小山 有
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001240931
Publication number (International publication number)：2003049265
Application date： Aug. 08, 2001
Publication date： Feb. 21, 2003
Summary：

【要約】【課題】 スパッタリングでガラスや鋼板、セラミック基材上に光触媒性酸化チタン膜を成膜する場合、酸化チタンは成膜速度が遅いため生産性が低く、コスト高の主な要因となっている。また、加熱してから成膜する場合が多く、この場合スパッタ装置内に真空加熱ゾーンを付けなければならず、スパッタ装置の大型、高額化にもつながり、結果として製品のコスト高、生産性の低下へとつながっていた。【解決手段】 スパッタリング装置にデュアルマグネトロン装置とPEM制御を用い、基材表面に無加熱スパッタリングで酸化チタン膜を高速性膜した後、大気中で焼成をおこない光触媒性酸化チタン膜を得る。この成膜方法により光触媒酸化チタン膜を薄膜化(25〜50nm)することができ成膜時間の短縮、コスト低減、生産性が大幅に向上する。さらにスパッタ装置の加熱ゾーンを完全に無くすことにより設備、ランニングコストを大幅に削減させることが可能となった。

Claim (excerpt)：

金属チタンをターゲットとし、PEM(プラズマエミッションモニター)制御により酸素をフローしたスパッタリング装置において無加熱で基材表面に非結晶性酸化チタン膜を成膜する工程と、該工程後、大気中で焼成を行ない前記非結晶性酸化チタン膜を光触媒性酸化チタン膜とする工程と、からなることを特徴とする光触媒性酸化チタン膜の成膜方法。

IPC (7)：

C23C 14/34 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/02 301 ,  B01J 37/08 ,  C01G 23/04 ,  C23C 14/08

FI (8)：

C23C 14/34 M ,  C23C 14/34 N ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J ,  B01J 37/02 301 P ,  B01J 37/08 ,  C01G 23/04 C ,  C23C 14/08 E

F-Term (28)：

4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069CD10 ,  4G069DA06 ,  4G069EA08 ,  4G069EB15X ,  4G069EB15Y ,  4G069ED04 ,  4G069FA01 ,  4G069FA03 ,  4G069FB02 ,  4G069FB30 ,  4G069FC07 ,  4K029AA09 ,  4K029BA48 ,  4K029CA06 ,  4K029DC03 ,  4K029DC39 ,  4K029EA01 ,  4K029EA08 ,  4K029GA01