Pat
J-GLOBAL ID:200903020157577650
反射防止膜、反射防止膜の製造方法、反射防止部材
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
西川 惠清
, 森 厚夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003048332
Publication number (International publication number):2004258267
Application date: Feb. 25, 2003
Publication date: Sep. 16, 2004
Summary:
【課題】中空微粒子が低屈折率層内において高充填されており、中空微粒子の内部の空洞によって低屈折率を確保して反射防止を可能とし、また、中空微粒子間の空隙に第2バインダーを充填することによって中空微粒子間の結合を補強して耐摩耗性を向上することができる反射防止膜を提供する。【解決手段】内部が空洞1である中空微粒子2を第1バインダー3で相互に結合させることによって形成される低屈折率層4からなる反射防止膜に関する。低屈折率層4内の中空微粒子2間の空隙5に第2バインダー6を充填する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
内部が空洞である中空微粒子を第1バインダーで相互に結合させることによって形成される低屈折率層からなる反射防止膜において、低屈折率層内の中空微粒子間の空隙に第2バインダーを充填して成ることを特徴とする反射防止膜。
IPC (3):
G02B1/11
, B32B7/02
, G02F1/1335
FI (3):
G02B1/10 A
, B32B7/02 103
, G02F1/1335
F-Term (33):
2H091FA37X
, 2H091FB02
, 2H091FC12
, 2H091LA02
, 2H091LA06
, 2H091LA07
, 2H091LA17
, 2K009AA02
, 2K009AA10
, 2K009BB11
, 2K009CC09
, 2K009CC26
, 2K009CC42
, 4F100AA20
, 4F100AA20A
, 4F100AH05A
, 4F100AK52
, 4F100AK52A
, 4F100AT00B
, 4F100BA02
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100CA02A
, 4F100DE01
, 4F100DE01A
, 4F100EH46
, 4F100EJ86
, 4F100GB41
, 4F100JA07A
, 4F100JN01B
, 4F100JN06
, 4F100JN18A
, 4F100YY00A
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (11)
-
反射防止膜および画像表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-188229
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
シリカ系微粒子、該微粒子分散液の製造方法、および被膜付基材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-048277
Applicant:触媒化成工業株式会社
-
反射防止積層体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-268173
Applicant:凸版印刷株式会社
-
防眩性反射防止フィルムおよび偏光板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-324152
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
反射防止膜および画像表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-253388
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-292841
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
反射防止膜および画像表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-275338
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
樹脂フィルム及び、前記樹脂フィルムを用いた偏光板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-147731
Applicant:コニカ株式会社
-
反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-148471
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
反射防止膜およびそれを配置した表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-294240
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
反射防止体及びその利用装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-165345
Applicant:株式会社日立製作所
Show all
Cited by examiner (11)
-
反射防止膜および画像表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-188229
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
シリカ系微粒子、該微粒子分散液の製造方法、および被膜付基材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-048277
Applicant:触媒化成工業株式会社
-
反射防止積層体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-268173
Applicant:凸版印刷株式会社
-
防眩性反射防止フィルムおよび偏光板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-324152
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
反射防止膜および画像表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-253388
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-292841
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
反射防止膜および画像表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-275338
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
樹脂フィルム及び、前記樹脂フィルムを用いた偏光板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-147731
Applicant:コニカ株式会社
-
反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-148471
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
反射防止膜およびそれを配置した表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-294240
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
反射防止体及びその利用装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-165345
Applicant:株式会社日立製作所
Show all
Return to Previous Page