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J-GLOBAL ID：200903020186710076

ウエットエッチング処理槽

Inventor： 岩下 雅文
Applicant, Patent owner： 松下電子工業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992064596
Publication number (International publication number)：1993267274
Application date： Mar. 23, 1992
Publication date： Oct. 15, 1993
Summary：

【要約】【目的】 ウエハとカセットの溝との接触部分にエッチング残りが無く、ウエハ全面を均一にエッチングする。【構成】 オーバーフロー槽11内へウエハ16をセットしたカセット15を投入する。このカセットの底部を固定枠17に固定すると、突き上げ板によってウエハが持ち上がる。ウエハが持ち上がる事によってポンプ13で循環された薬液がカセットの洗浄窓19よりカセット内に流れ込みやすくなり、ウエハ全面を均一にエッチングできる。

Claim (excerpt)：

槽内の底板にカセットを固定する枠とウエハおよびカセットの溝に沿って持ち上げるための固定部と、前記槽内の薬液を循環するポンプと、オーバーフロー槽とを備えたことを特徴とするウエットエッチング処理槽。