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J-GLOBAL ID：200903020187225236
収束イオンビーム・二次イオン質量分析計複合装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991199151
Publication number (International publication number)：1993047336
Application date： Aug. 08, 1991
Publication date： Feb. 26, 1993
Summary：
【要約】【目的】 一つの装置で、収束イオンビーム照射による試料への加工断面形成と、その加工断面の高感度二次イオン質量分析を可能にする。【構成】 試料に対して加工断面形成用の収束イオンビームと試料分析用の一次イオンビーム1とをその用途に応じて照射する。装置は試料2を保持する試料ホルダー8、二次イオン4の引出し電極3、二次イオン分離部及び検出部を備える。ホルダー8はホルダーベース8Aとそのベース8A面に傾斜機構26で支持されつつ組み込まれた試料搭載部8Bとよりなる。ベース8Aが引出し電極3との関係で図1の適正位置(二次イオン引出し電界の歪を極力少なくできる位置)にある時、試料搭載部8Bは傾斜機構26により少なくともホルダーベース8Aと同じ向きの位置からホルダーベース8Aと逆向きの位置の範囲で傾斜可能である。
Claim (excerpt)：
試料に対して加工断面形成用の収束イオンビームと試料分析用の一次イオンビームとをその用途に応じて照射する一次イオン照射系と、前記試料を保持する試料ホルダーと、前記試料への一次イオンビーム照射によって放出される二次イオンを引き出す二次イオン引出し電極と、二次イオン分離部及び検出部とを備え、且つ前記試料ホルダーは、ホルダーベースとそのホルダーベース面に傾斜機構で支持されつつ組み込まれた試料搭載部とで構成され、前記ホルダーベースが前記二次イオン引出し電極との関係で適正位置にある時に、前記試料搭載部は前記傾斜機構により少なくとも前記ホルダーベースと同じ向きの位置から前記ホルダーベースと逆向きの位置の範囲で傾斜可能に設定して成ることを特徴とする収束イオンビーム・二次イオン質量分析計複合装置。
IPC (3)：
H01J 37/252
, H01J 49/26
, H01L 21/302
