Pat
J-GLOBAL ID:200903020203407013

磁気抵抗用磁性膜およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 北村 欣一 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993083537
Publication number (International publication number):1994295819
Application date: Apr. 09, 1993
Publication date: Oct. 21, 1994
Summary:
【要約】【目的】 従来のパーマロイ系磁性膜よりも磁気抵抗比を向上させた磁気抵抗用磁性膜と、その製造方法。【構成】 パーマロイ系合金中にN、O、C、Bのいずれか1種類、またはその複数を微量に含まれている磁気抵抗用磁性膜、およびN、O、C、Bの元素を含む希ガス雰囲気中でパーマロイ系合金をスパッタリングして基板上にパーマロイ系合金中にN、O、C、Bのいずれか1種類、またはその複数を含まれている磁性膜を製造する方法。
Claim (excerpt):
パーマイロ系合金またはニッケル・コバルト合金等の磁気抵抗用合金から成る磁気抵抗用磁性膜であって、該磁気抵抗用合金中にN、O、C、Bの少なくとも1種類を0.05at%ないし5at%含むことを特徴とする磁気抵抗用磁性膜。
IPC (5):
H01F 10/14 ,  C23C 14/06 ,  H01F 41/14 ,  H01L 43/02 ,  H01L 43/12
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
Show all
Cited by examiner (6)
Show all

Return to Previous Page