ゼオライト系触媒を用いた化学物質の製造方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (5)：吉武賢次 , 中村行孝 , 紺野昭男 , 横田修孝 , 堅田健史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002243977
Publication number (International publication number)：2004083440
Application date： Aug. 23, 2002
Publication date： Mar. 18, 2004
Summary：

【課題】形状選択的性に優れたゼオライト系触媒を用いて、所望の生産物を高い転化率で製造する方法を確立する。【解決手段】a)出発物質と、反応剤とを用意し、b)前記出発物質と前記反応物質とをゼオライト系触媒に供給し、所定の温度T1で前記ゼオライト系触媒に吸蔵させ、c)前記出発物質と前記反応剤とを供給せずに、前記出発物質と前記反応剤とを吸蔵させた前記ゼオライト系触媒を所定の温度T2まで昇温し、d)前記出発物質と前記反応剤とを吸蔵させた前記ゼオライト系触媒をT2の温度で維持し、生産物を回収することを含んでなる製造方法により達成される。

Claim (excerpt)：

a)出発物質と、反応剤とを用意し、該出発物質が、単環式炭化水素、縮合多環式炭化水素、単環式複素環化合物、および縮合複素環式化合物からなる群から選択される一または二以上のものであり、該反応剤が、アルキル化反応剤、脱アルキル化反応剤、または水素化分解反応剤であり、 b)前記出発物質と前記反応物質とをゼオライト系触媒に供給し、前記出発物質の沸点T0+20°C以下の温度T1で、前記出発物質と前記反応剤とを該ゼオライト系触媒に吸蔵させ、該ゼオライト系触媒が、その主細孔の孔径が前記出発物質の分子の縦方向または横方向のいずれか短い方の長さ+0.05nm以下のものであり、 c)前記出発物質と前記反応剤とを供給せずに、前記出発物質と前記反応剤とを吸蔵させた前記ゼオライト系触媒をT0+30°C〜T0+300°Cの温度T2まで昇温し、 d)前記出発物質と前記反応剤とを吸蔵させた前記ゼオライト系触媒をT2の温度で維持し、生産物を回収することを含んでなる、製造方法。

IPC (4)：

C07C2/86 , C07B37/04 , C07C15/24 , C10G47/16

FI (4)：

C07C2/86 , C07B37/04 , C07C15/24 , C10G47/16

F-Term (13)：

4H006AA02 , 4H006AC25 , 4H006BA71 , 4H006BA81 , 4H006BA82 , 4H006BA85 , 4H006BC10 , 4H006BC19 , 4H006BD20 , 4H029CA00 , 4H029DA00 , 4H039CA11 , 4H039CD10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

メタロシリケート触媒を用いたジメチルナフタレンおよびアルキルナフタレンの製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-095170 Applicant：富士石油株式会社
特開平4-202144
特開昭51-039655

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