光学素子及びその製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：園田敏雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001285802
Publication number (International publication number)：2003094441
Application date： Sep. 19, 2001
Publication date： Apr. 03, 2003
Summary：

【要約】【課題】走査光学系の走査光束の副走査方向の曲がり(走査線曲がり)についての高精度要求に応えるために、形状誤差や屈折率分布に依存する像面湾曲と共に、走査線曲がりについても高い精度を達成した走査光学系の光学素子を製作できるように、その製造方法を工夫すること。【解決手段】光学素子の製造方法を、設計値に基づいて成形用の鏡面駒を作成し、一定の形状誤差が安定して得られるような成形条件で光学素子を成形するイニシャル成形工程と、前記光学素子の各光学特性を測定する光学特性測定工程と、前記光学特性測定工程で得られた各像高における理想からの偏差を反転した分布を新たな理想として、特定の係数を変化させつつ繰り返し光学シミュレーションを行い、理想からの差を最小とするように係数を最適化する再設計工程と、当該再設計工程で得られた新しい設計値に基づいて鏡面駒を作成する鏡面駒修正工程と、修正された鏡面駒を用いて光学素子を成形する本成形工程とで構成したこと。

Claim (excerpt)：

設計値に基づいて成形用の鏡面駒を作成し、一定の形状誤差が安定して得られるような成形条件で光学素子を成形するイニシャル成形工程と、前記光学素子の各光学特性を測定する光学特性測定工程と、前記光学特性測定工程で得られた各像高における理想からの偏差を反転した分布を新たな理想として、特定の係数を変化させつつ繰り返し光学シミュレーションを行い、理想からの差を最小とするように係数を最適化する再設計工程と、当該再設計工程で得られた新しい設計値に基づいて鏡面駒を作成する鏡面駒修正工程と、修正された鏡面駒を用いて光学素子を成形する本成形工程とからなる光学素子の製造方法。

IPC (3)：

B29C 33/38 , G02B 26/10 , B29L 11:00

FI (3)：

B29C 33/38 , G02B 26/10 D , B29L 11:00

F-Term (10)：

2H045AA01 , 2H045CA02 , 2H045CA33 , 2H045CA63 , 4F202AH74 , 4F202CA11 , 4F202CB01 , 4F202CD01 , 4F202CD28 , 4F202CD30

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