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J-GLOBAL ID：200903020263605140

シリカガラスの製造法

Inventor： 武井 康一 ,  林 房司 ,  町井 洋一 ,  嶋崎 俊勝
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991221973
Publication number (International publication number)：1993058651
Application date： Sep. 03, 1991
Publication date： Mar. 09, 1993
Summary：

【要約】【目的】光学的性質に優れ、空孔がなく、しかも大形のシリカガラスを安価に製造する方法を提供する。【構成】50重量%のポリ酢酸ビニル/メチルアルコール溶液645gとメチルアルコール3500gを混合し、これにシリコンテトラメトキシド(Si(OCH3)4)の部分重縮合物4300gを加え、混合し、15mMのコリン水溶液1676gを滴下し、シリカゾルを得る。これを容器に入れ、蓋をし、30°Cでゲル化し、60°Cで6日間、つづいて120°Cで1日乾燥し、乾燥ゲルを得る。乾燥ゲルを空気流通下に、700°Cに昇温し、ヘリウム雰囲気中、1300°Cまに昇温してシリカガラス体又はガラス前駆体を得る。これを金属含有量が20ppmの高純度の等方性カーボンの板の上に載せ、同じ材料でつくったルツボに入れて、1740°Cで30分加熱処理し、シリカガラスを得る。

Claim (excerpt)：

シリコンアルコキシドを有機溶媒中、触媒と共に加水分解してシリカゾルとし、つづいてゲル化し、乾燥して乾燥ゲルとし、これを1000〜1400°Cで加熱してガラス体又はガラス前駆体としたのち、これを金属含有量50ppm以下の高純度カーボンからなる敷板に載せ、又はこれを金属含有量50ppm以下の高純度カーボンからなるルツボに入れ、焼成炉中、1720°C以上の温度で焼成することを特徴とするシリカガラスの製造法。

IPC (2)：

C03B 8/02 ,  C03B 20/00