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J-GLOBAL ID：200903020266544584
金属酸化物薄膜の製造方法及び金属酸化物薄膜
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997267027
Publication number (International publication number)：1999106935
Application date： Sep. 30, 1997
Publication date： Apr. 20, 1999
Summary：
【要約】【課題】 従来よりも低温で、低い抵抗値と高い可視光透過率を有する金属酸化物系の透明導電膜を形成することができる方法を提供する。【解決手段】 透明基板上に成膜された金属酸化物系薄膜の製造法において,(a)金属アルコキシド及び/又は金属塩を含有する塗布液を透明基板上に塗布する工程,(b)塗布被膜を加熱することによって完全もしくは不完全に乾燥する工程,及び、(c)乾燥被膜に紫外光線もしくは可視光を照射する工程,を含むことを特徴とする金属酸化物系薄膜の製造法。
Claim (excerpt)：
透明基板上に成膜された金属酸化物系薄膜の製造法において,(a)金属アルコキシド及び/又は金属塩を含有する塗布液を透明基板上に塗布する工程,(b)塗布被膜を加熱することによって完全もしくは不完全に乾燥する工程,及び(c)乾燥被膜に紫外光線もしくは可視光を照射する工程,を含むことを特徴とする金属酸化物系薄膜の製造法。
IPC (4)：
C23C 18/14
, C03C 17/27
, H01L 21/288
, H01L 31/04
C23C 18/14
, C03C 17/27
, H01L 21/288 Z
, H01L 31/04 M
