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J-GLOBAL ID：200903020281117684

露光方法およびその装置

Inventor： 平沢 聡美
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994084233
Publication number (International publication number)：1995297096
Application date： Apr. 22, 1994
Publication date： Nov. 10, 1995
Summary：

【要約】【目的】化学増幅系のレジストが塗布されたウェーハ15にパターンを転写し潜像を形成しベーキングし安定化処理する露光方法およびその装置において、パターン転写後に起きるレジストの触媒の不活性化による解像度の低下を防止を行ない。かつ転写工程のスループットの向上を図る。【構成】一枚ずつウェーハ15にパターンを転写する転写室1に隣接して配設されに転写済みの複数のウェーハ15を集積し高真空下で保管するベーク室2と、このベーク室2に水分や塩基物の含まない加熱ガスを供給するガス供給装置5とを設け、パターンが転写されたウェーハ15の複数枚をベーク室2に集積し、レジストの触媒の不活性化を起さないガスの加熱で同時にベーキングする。

Claim (excerpt)：

放射線感応材料が被着された基板を一枚ずつ電子線あるいは光などの放射線を投射しパターンを転写した後に、該パターンが転写された前記基板を真空状態で保管し、しかる後に前記放射線感応材料の反応を起すもととなる触媒を不活性化させる分子が含まないガスで前記放射線感応材料を加熱することを特徴とする露光方法。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/38 511

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭57-142637
  
• 特開平3-154324
  
• 特開昭62-142320