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J-GLOBAL ID:200903020324913277
含フッ素重合性単量体およびそれを用いた高分子化合物
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
西 義之
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001222530
Publication number (International publication number):2003040840
Application date: Jul. 24, 2001
Publication date: Feb. 13, 2003
Summary:
【要約】【課題】 高いフッ素含量を有しながら、幅広い波長領域すなわち真空紫外線から光通信波長域にいたるまで高い透明性を有し、かつ基板への密着性や高い成膜性を併せ持つ新規な重合性単量体およびそれを用いた高分子化合物、さらにはその高分子化合物をコーティングした反射防止材料、光デバイス材料、レジスト材料を提供する。【解決手段】 高いフッ素含量とヒドロキシ基を含有させた特定の化合物として一連の新規な含フッ素アクリレート誘導体およびそれらの単量体を用いた高分子化合物、さらにその高分子化合物を用いた反射防止材料、光デバイス材料、レジスト材料。
Claim (excerpt):
一般式(1)【化1】(式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、含フッ素アルキル基を表し、R2は直鎖または分岐を有しても良いアルキル基、環状構造を有するアルキル基、芳香環、またはそれらの複合置換基であって、その一部がフッ素化されていてもよい。R3は水素原子、及び分岐を含んでも良い炭化水素基、含フッ素アルキル基、芳香族や脂肪環を有する環状体であって、酸素、カルボニル等の結合を含んでも良い。また、nは1〜2の整数を表す。)で表される重合性単量体。
IPC (5):
C07C 69/533
, C07C 69/003
, C07C 69/013
, C07C 69/54
, C08F220/24
FI (5):
C07C 69/533
, C07C 69/003 C
, C07C 69/013 C
, C07C 69/54
, C08F220/24
F-Term (31):
4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB46
, 4H006AB78
, 4H006BJ20
, 4H006BJ50
, 4H006BM10
, 4H006BM71
, 4H006BN10
, 4H006BP10
, 4H006KC14
, 4H006KE00
, 4H006KE20
, 4H006KF10
, 4J100AA00Q
, 4J100AA02Q
, 4J100AA03Q
, 4J100AB02Q
, 4J100AC21Q
, 4J100AE00Q
, 4J100AL03Q
, 4J100AL08P
, 4J100AL71P
, 4J100AR11Q
, 4J100BA03P
, 4J100BA04P
, 4J100BB18P
, 4J100BC43P
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100JA38
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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特開平2-129145
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特開昭64-060614
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特開平2-129146
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ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-202298
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-346933
Applicant:信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社
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Article cited by the Patent: