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J-GLOBAL ID:200903020330159592
電子放出素子及びその製造方法、該電子放出素子を用いた電子源並びに画像形成装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
豊田 善雄 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994278556
Publication number (International publication number):1996115652
Application date: Oct. 19, 1994
Publication date: May. 07, 1996
Summary:
【要約】【目的】 製造工程が繁雑でなく、均一な電子放出特性を有する電子放出素子を提供する。【構成】 絶縁性基板1上に、素子電極2及び2’をつながった形状で形成し、収束イオンビームにより500nm以下の微小間隙Lを形成し、炭化水素ガスを含む雰囲気下で熱処理することにより炭素を主成分とする堆積物3を上記微小間隙に堆積させてなる電子放出素子。
Claim (excerpt):
少なくとも、絶縁性基板と、該絶縁性基板上に形成された微小間隙を介して対向する一対の電極と、前記微小間隙に堆積された炭素を主成分とする堆積物からなることを特徴とする電子放出素子。
IPC (4):
H01J 1/30
, H01J 29/46
, H01J 31/12
, H01J 31/15
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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