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J-GLOBAL ID：200903020366310238

異物検査装置及び異物検査方法

Inventor： 宮下 登美子
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 鈴木 喜三郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992020218
Publication number (International publication number)：1993215689
Application date： Feb. 05, 1992
Publication date： Aug. 24, 1993
Summary：

【要約】【目的】ペリクルを装着したフォトマスクの異物を解析する異物検査装置において、光学的拡大観察装置を使い、フォトスク上の異物13とクロム上の異物18の解析を効率的にかつ連続的に解析する事を目的とする。【構成】ペリクルを装着したフォトマスクの異物を解析する異物検査装置において、前記フォトマスクの上下面を異物検査装置内で、反転する機能を配設し、一度フォトマスクセットしたらを異物検査装置からはずし反転することなく連続的にフォトマスク上面の異物13とクロム上の異物18の解析を行う。

Claim (excerpt)：

ペリクルを装着したフォトマスク上の異物へ、前記ペリクルを通して異物検出光を照射し、前記異物で散乱して前記ペリクルを通過した散乱光の強度を測定する事により、前記異物の大きさを判定、観察及び表示の機能を有する異物検査装置において、前記フォトマスクの上下面を、異物検査装置内で反転する機能を有することを特徴とする異物検査装置。

IPC (4)：

G01N 21/88 ,  G03F 1/14 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66