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J-GLOBAL ID：200903020370262442

化学増幅型ホトレジスト組成物

Inventor： 陳 啓盛 ,  李 晏成 ,  鄭 孟勲
Applicant, Patent owner： エバーライトユーエスエー インコーポレイティッド
Agent (1)： 竹本 松司 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003134879
Publication number (International publication number)：2003345025
Application date： May. 13, 2003
Publication date： Dec. 03, 2003
Summary：

【要約】【課題】 化学増幅型ホトレジスト組成物の提供。【解決手段】 化学構造式189で示されるユニット(II)が重複した構造のポリマーを含有する化学増幅型ホトレジスト組成物であり、R1 はH或いはC1-C4 のアルキル基、R2 は水酸基、C1 -C8 のアルコキシル基或いはC1 -C8 のチオアルキル基、Gは(CH2 )n 、O或いはS、そのうちnは0〜4の整数、Rcはラクトン基、mは1〜3の整数である。本発明の化学増幅型ホトレジスト組成物は一般のリソグラフィー工程、特に波長193nm光源のリソグラフィー工程に使用され、極めて良好な解析度、輪郭及び感光度を有する。【化189】

Claim (excerpt)：

以下の化学構造式1において(II)で示されるユニットが重複した構造を具えたポリマーを具え、【化1】そのうち、R1 はH或いはC1 -C4 のアルキル基、R2 は水酸基、C1 -C8 のアルコキシル基或いはC1 -C8 のチオアルキル基、Gは(CH2 )n 、O或いはS、そのうちnは0〜4の整数、Rcはラクトン基、mは1〜3の整数であることを特徴とする、化学増幅型ホトレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 20/10 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 20/10 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (37)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025CB60 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AJ02Q ,  4J100AJ02S ,  4J100AK32S ,  4J100AL03P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03R ,  4J100BA04R ,  4J100BA05R ,  4J100BA06R ,  4J100BA11R ,  4J100BA53R ,  4J100BC04R ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 米国特許第6,271,412号
  
• 米国特許第6,280,898号
  
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-051811   Applicant：東京応化工業株式会社

Cited by examiner (2)

• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-367619   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-072984   Applicant：JSR株式会社