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J-GLOBAL ID：200903020372337750

レーザ加工方法およびこれを用いた液体噴射記録ヘッドの製造方法

Inventor： 石松 伸 ,  工藤 清光 ,  益田 和明 ,  杉谷 博志 ,  河合 潤 ,  長田 虎近 ,  佐藤 陽平 ,  日隈 昌彦 ,  種谷 陽一 ,  稲本 忠喜
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 阪本 善朗
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994290599
Publication number (International publication number)：1996132260
Application date： Oct. 31, 1994
Publication date： May. 28, 1996
Summary：

【要約】【目的】 レーザ加工の副成物によるトラブルを回避する。【構成】 液体噴射記録ヘッドの樹脂製天板等の基体10の表面10aに界面活性剤等を塗布し、液状保護膜12を設ける。基体10の所定の部分にエキシマレーザ等のレーザ光A1 を照射して溝11を形成し、このときの副成物B1 を液状保護膜12に捕捉させる。レーザ加工後に液状保護膜12を軽く拭き取るだけで副成物B1 を除去できる。

Claim (excerpt)：

被加工物の表面に液状またはムース状の塗膜を設けたうえで前記被加工物にレーザ光を照射して加工を行なう工程と、加工を行なった被加工物から液状またはムース状の塗膜を除去する工程を有するレーザ加工方法。

IPC (5)：

B23K 26/00 ,  B23K 26/00 330 ,  B23K 26/16 ,  B23K 26/18 ,  B41J 2/135