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J-GLOBAL ID：200903020386222939

塗布装置

Inventor： 柴田 徳夫 ,  鈴木 章弘 ,  高橋 伸輔 ,  都丸 美喜男
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992122612
Publication number (International publication number)：1993293420
Application date： Apr. 16, 1992
Publication date： Nov. 09, 1993
Summary：

【要約】【目的】 支持体の幅方向不均一による幅方向塗膜厚み変動やスジ発生を抑えて、塗布厚みが均一な薄層塗膜の製品、特に、磁気記録媒体の場合では、電磁変換特性が良好な磁気記録媒体を、高速で安定して製造する装置を提供する。【構成】 エクストルージョン型ヘッドの塗布装置における、バックエッジの先端部に面取り面を形成し、前記面取り面と前記バックエッジの前記下流側傾斜面とのなす角度αが40°以上140°以下、前記面取り面と前記バックエッジの前記上流側傾斜面の角度βが40°以上180°未満、前記面取り面の幅Lが0.002mm以上である。前記バックエッジの前記下流側傾斜面と前記ヘッドから離れて行く前記支持体とのなす角度θは25°以上である。

Claim (excerpt)：

有機溶剤を主体とするプレコート液を支持体の塗布面にあらかじめ塗布して液封した状態で、支持体移動方向に対して上流側に位置するフロントエッジと、該支持体移動方向に対して下流側に位置し先端が前記フロントエッジよりも反支持体方向に後退したバックエッジとを有するエクストルージョン型ヘッドにより、前記支持体上に一層以上の塗布層を形成する塗布装置において、 前記バックエッジの先端部に面取り面を形成し、前記面取り面と前記バックエッジの前記下流側傾斜面とのなす角度αが40°≦α≦140°、前記面取り面と前記バックエッジの前記上流側傾斜面の角度βが40°≦β<180°、前記面取り面の幅L(mm)が0.002≦Lであり、前記バックエッジの前記下流側傾斜面と前記ヘッドから離れて行く前記支持体とのなす角度θを25°以上に設定して塗布することを特徴とする塗布装置。