プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993347647
Publication number (International publication number)：1994252071
Application date： Dec. 24, 1993
Publication date： Sep. 09, 1994
Summary：

【要約】【目的】新規なプラズマ処理方法を提供する。【構成】シートビーム型のプラズマを用いてプラズマ処理を行なう。このシートビーム状のプラズマは、一対の電極間において一方の電極にスリットを設け、このスリットから反応性気体を噴出させることによって実現させる。

Claim (excerpt)：

真空容器内にシートビーム型のプラズマ領域発生手段を設け、該領域を被プラズマ処理基板が通過する過程でプラズマ処理を行うことを特徴とするプラズマ処理方法

IPC (4)：

H01L 21/205 , C23C 14/06 , C23C 16/50 , H01L 21/302

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

特開平1-109699
特開平3-215671
特開平4-124276

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