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J-GLOBAL ID:200903020403174730

オゾン処理装置及びオゾン処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 平木 祐輔 ,  関谷 三男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007163951
Publication number (International publication number):2009000625
Application date: Jun. 21, 2007
Publication date: Jan. 08, 2009
Summary:
【課題】 被処理材の表面をばらつきなく均質に処理することができると共に、処理コストを低減することができる提供する。【解決手段】 被処理材Wを収容する収容室20Aと、該収容室20A内に収容された前記被処理材の表面に、ミストまたは蒸気に溶存したオゾンを接触させるためのオゾン接触部30Aと、を少なくとも備え、前記被処理材Wにオゾン処理を行う装置10Aであって、該オゾン処理装置10Aは、前記収容室1内の圧力を一定圧力に加圧調整する加圧調整部40をさらに備える。【選択図】図1
Claim (excerpt):
被処理材を収容する収容室と、該収容室内に収容された前記被処理材の表面に、ミストまたは蒸気に溶存したオゾンを接触させるためのオゾン接触部と、を少なくとも備え、前記被処理材にオゾン処理を行う装置であって、 該オゾン処理装置は、前記収容室内の圧力を一定圧力に加圧調整する加圧調整部をさらに備えることを特徴とするオゾン処理装置。
IPC (2):
B05B 13/02 ,  B01F 1/00
FI (2):
B05B13/02 ,  B01F1/00 A
F-Term (6):
4F035CA02 ,  4F035CA05 ,  4F035CA08 ,  4F035CB13 ,  4F035CC01 ,  4G035AA01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)

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