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J-GLOBAL ID：200903020416867123

分子デバイス及びその製造方法

Inventor： 宮戸 祐治 ,  小林 圭 ,  山田 啓文 ,  松重 和美
Applicant, Patent owner： 国立大学法人京都大学
Agent (1)： 特許業務法人原謙三国際特許事務所
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2005015773
Publication number (International publication number)：WO2006025391
Application date： Aug. 30, 2005
Publication date： Mar. 09, 2006
Summary：

本発明の分子デバイス(1)は、基板(4)の酸化物からなる酸化物層(4b)上に、その表面に化学的に結合するように形成された、自己組織化された単分子膜(3)が設けられ、単分子膜(3)上には、ナノ構造体が配置されている。これにより、基板と、該基板上に配置されるナノ構造体との相互作用を低減し、基板上でのナノ構造体の配向を容易に制御し得る分子デバイス及びその製造方法を提供することができる。

Claim (excerpt)：

基板上にナノ構造体が配置された分子デバイスであって、 上記基板は、酸化物からなる酸化物層を有し、 上記酸化物層上には、該酸化物層の表面に化学的に結合するように疎水性膜が形成され、 上記疎水性膜は、自己組織化された単分子膜であって、上記疎水性膜上に上記ナノ構造体が配置されていることを特徴とする分子デバイス。

IPC (3)：

H01L 29/06 ,  B82B 1/00 ,  B82B 3/00

FI (3)：

H01L29/06 601N ,  B82B1/00 ,  B82B3/00