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J-GLOBAL ID：200903020440910293

基板洗浄方法及び基板洗浄装置

Inventor： 稲垣 靖史
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000341093
Publication number (International publication number)：2002143791
Application date： Nov. 08, 2000
Publication date： May. 21, 2002
Summary：

【要約】【課題】 均一安定な基板洗浄を可能とし、同時に省資源化、廃棄物低減化を可能とする。【解決手段】 弗化アンモニウムを含み、弗化アンモニウム(重量%)/弗化水素(重量%)>50である水溶液を洗浄液として基板の洗浄を行う際に、洗浄液の使用時間の経過とともに当該洗浄液にアンモニア成分を追加補充する。弗化アンモニウム、あるいは弗化アンモニウムと弗化水素を含む水溶液を洗浄液とする場合、これらの比率(弗化アンモニウム/弗化水素)によって変化の様子が異なり、弗化アンモニウム(重量%)/弗化水素(重量%)>50の場合には、弗化アンモニウムと弗化水素の比率が経過時間と共に次第に変化する。したがって、アンモニア成分を補充し、過剰なHFをNH4 Fに変換することで、HF濃度が一定に保たれる。

Claim (excerpt)：

弗化アンモニウムを含み、弗化アンモニウム(重量%)/弗化水素(重量%)>50である水溶液を洗浄液として基板の洗浄を行う際に、上記洗浄液の使用時間の経過とともに当該洗浄液にアンモニア成分を追加補充することを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (7)：

B08B 3/08 ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/10 ,  C11D 17/08 ,  H01L 21/304 647 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/308

FI (7)：

B08B 3/08 Z ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/10 ,  C11D 17/08 ,  H01L 21/304 647 Z ,  H01L 21/304 648 G ,  H01L 21/308 G

F-Term (28)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BB04 ,  3B201BB05 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201CB01 ,  3B201CC21 ,  3B201CD22 ,  3B201CD42 ,  3B201CD43 ,  4H003BA12 ,  4H003DA15 ,  4H003EA05 ,  4H003ED02 ,  4H003FA03 ,  4H003FA21 ,  4H003FA23 ,  5F043AA02 ,  5F043AA29 ,  5F043BB27 ,  5F043DD30 ,  5F043EE23 ,  5F043EE24 ,  5F043EE27