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J-GLOBAL ID：200903020461958784

蛍光X線分析装置

Inventor： 桑原 章二
Applicant, Patent owner： 株式会社島津製作所
Agent (1)： 岡田 和秀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992052470
Publication number (International publication number)：1993256803
Application date： Mar. 11, 1992
Publication date： Oct. 08, 1993
Summary：

【要約】【目的】 蛍光X線分析装置において、分析チャンバ内のHeガスによる置換を短時間の内に効率的に行え、しかも、蛍光X線の検出強度の時間変化の影響等も殆ど生じないようにする。【構成】 分析チャンバ2を照射室6と試料室8とに分離する仕切壁4には、X線透過率の高い材料でできた隔離膜22がX線照射孔18を密閉する状態で取り付けられている。

Claim (excerpt)：

中空の分析チャンバを有し、この分析チャンバが仕切壁によって一次X線照射用の照射室と、試料装填用の試料室とにそれぞれ分離され、前記照射室には一次X線発生用のX線管および試料からの蛍光X線を分光する分光器がそれぞれ配置される一方、前記仕切壁には、X線管からのX線出射方向に前記両室内を連通するX線照射孔が形成されるとともに、このX線照射孔を開閉するシャッタが配置されている蛍光X線分析装置において、前記仕切壁には、X線透過率の高い材料でできた隔離膜が、前記X線照射孔を密閉する状態で取り付けられていることを特徴とする蛍光X線分析装置。