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J-GLOBAL ID：200903020463605595

洗浄方法及び洗浄装置

Inventor： 水谷 淳二 ,  森山 優一
Applicant, Patent owner： 株式会社ササクラ
Agent (9)： 三枝 英二 ,  掛樋 悠路 ,  小原 健志 ,  中川 博司 ,  舘 泰光 ,  斎藤 健治 ,  藤井 淳 ,  関 仁士 ,  中野 睦子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003164199
Publication number (International publication number)：2005005326
Application date： Jun. 09, 2003
Publication date： Jan. 06, 2005
Summary：

【課題】オゾンを用いて有機皮膜を効果的に除去する方法を提供する。【解決手段】基材上の有機皮膜を洗浄液により除去する方法であって、(1)原料水としての純水ないしは超純水にオゾンガス及び炭酸ガスを溶解させることによって洗浄液を調製する第一工程、(2)洗浄液を45°C以上で基材上の有機皮膜と接触させることにより、当該有機皮膜を基材から除去する第二工程を有することを特徴とする洗浄方法に係る。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

基材上の有機皮膜を洗浄液により除去する方法であって、 (1)原料水としての純水ないしは超純水にオゾンガス及び炭酸ガスを溶解させることによって洗浄液を調製する第一工程、 (2)当該洗浄液を45°C以上で基材上の有機皮膜と接触させることにより、有機皮膜を基材から除去する第二工程 を有することを特徴とする洗浄方法。

IPC (3)：

H01L21/304 ,  B08B3/08 ,  H01L21/027

FI (4)：

H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 648F ,  B08B3/08 Z ,  H01L21/30 572B

F-Term (12)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB03 ,  3B201AB47 ,  3B201BB04 ,  3B201BB82 ,  3B201BB93 ,  3B201BB98 ,  3B201CB01 ,  3B201CD22 ,  5F046MA02 ,  5F046MA05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 有機物除去方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-541728   Applicant：エフエスアイインターナショナルインコーポレイテッド
• ウエット処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-056110   Applicant：日本電気株式会社