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J-GLOBAL ID:200903020465371192

コンデンサの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岩橋 文雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998274954
Publication number (International publication number):2000106329
Application date: Sep. 29, 1998
Publication date: Apr. 11, 2000
Summary:
【要約】【課題】 ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)からなる導電性高分子層を備えたコンデンサで、高温・高湿度下での安定性に優れたコンデンサの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 酸化剤と3,4-エチレンジオキシチオフェンモノマ-及び溶媒を混ぜ合わせた混合溶液を誘電体層に塗布した後、溶媒の沸点以上に速やかに加熱して重合反応を進行させることと、導電性高分子層中に残った過剰な酸化剤を有機溶剤を用いた洗浄によって取り除くことにより、高温・高湿度下での安定性に優れたコンデンサ得ることができる。
Claim (excerpt):
3,4-エチレンジオキシチオフェンモノマ-と酸化剤を溶媒により溶解した混合溶液を用意する工程と、誘電体層を用意する工程と、前記誘電体層の少なくても一方に前記混合溶液を塗布する工程と、前記混合溶液が塗布された誘電体層を前記溶媒の沸点以上に速やかに加熱する工程と、前記モノマ-と前記酸化剤との化学重合反応により、前記誘電体層の少なくても一方に導電性高分子層を形成する工程と、少なくとも有機溶剤により洗浄する工程とを有するコンデンサの製造方法。
FI (2):
H01G 9/02 331 H ,  H01G 9/02 331 G
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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