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J-GLOBAL ID：200903020480668070
露光用マスク
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
薄田 利幸 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991316126
Publication number (International publication number)：1993150445
Application date： Nov. 29, 1991
Publication date： Jun. 18, 1993
Summary：
【要約】【目的】 使用環境気圧等の変化に影響されず、かつ、異物等の付着によるパタン転写異常を生じることの無いマスクを得る。【構成】 所望のマスクパタンを転写するためのパタン4を有する基板1と、所定の厚さを有する透明薄膜2と透明薄膜2を基板1のパタンから所定の間隔をおいて設けるための保持部材3とを有する露光用マスクにおいて、保持部材3に1個以上の開口部5を設けた。【効果】 異物等の付着によるパタン転写異常を生じることの無いマスクが得られ、固体素子製造工程の歩留まりを上げ生産性を向上することができる。又、マスクの寿命を延ばすことができる。
Claim (excerpt)：
転写用のマスクパタンが形成された基板と、上記基板のマスクパタンから所定の間隔をおいて透明薄膜を設けるための壁状保持部材とを有する露光用マスクにおいて、上記保持部材に1個以上の開口部を設けて構成されたことを特徴とする露光用マスク。
IPC (2)：
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