Pat
J-GLOBAL ID：200903020502470805
プラズマ洗浄装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
佐竹 弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994045188
Publication number (International publication number)：1995228990
Application date： Feb. 18, 1994
Publication date： Aug. 29, 1995
Summary：
【要約】【目的】 被処理物を真空チャンバー内の空間に相互に積層する状態に入れても、それらを均一にプラズマ洗浄することが出来て、プラズマ洗浄装置の効率を極めて向上させることができるようにする。【構成】 真空チャンバー内への出し入れを自在の移動枠に複数の受枠を相互間に電極を入れる為の空間を隔て配置し、各空間には真空チャンバー内においてプラズマ雰囲気を形成する為の電極を夫々介設、かつこれらの電極は、接離自在の接続具を介して真空チャンバーの側の電源用接続器に接離可能にしてある
Claim (excerpt)：
真空チャンバー内への出し入れを自在にしてある移動枠においては夫々被処理物を支承する為の複数の受枠を相互間に電極を入れる為の空間を隔て配置し、更に上記各空間には真空チャンバー内においてプラズマ雰囲気を形成する為の電極を夫々介設すると共に、これらの電極は上記移動枠にて支承し、かつこれらの電極は、接離自在の接続具を介して真空チャンバーの側に設けられる電源用接続器に対して接離可能にしてある移動枠を備えたことを特徴とするプラズマ洗浄装置。
IPC (2)：
Return to Previous Page
