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J-GLOBAL ID：200903020507883091

モジュラー式ジオステアリング用ツールアセンブリ

Inventor： ビター,マイケル,エス. ,  メネゼス,クライブ ,  ポーク,マーティン,ディー.
Applicant, Patent owner： ハリバートン エナジー サービシーズ,インコーポレーテッド
Agent (1)： 特許業務法人岡田国際特許事務所
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2009519509
Publication number (International publication number)：2009544006
Application date： Jul. 11, 2007
Publication date： Dec. 10, 2009
Summary：

延長モジュールをベースモジュールに連結し、 層の比抵抗における方位角変化を検出すること、及び操縦することの少なくともいずれか一方を行うために、延長モジュール及びベースモジュールを協働して操作する、検層方法。 ベースモジュールと、 ベースモジュールに連結する延長モジュールとを有し、操縦するために層の比抵抗における方位角変化を協働して検出することができるジオステアリングツールアセンブリ。 ベースモジュールに機械的に連結するとともに、そのように連結されたときにベースモジュールと電気的な信号経路を確立するネジ式コネクタと、 層の比抵抗における方位角変化を検出すること、及び操縦することの少なくともいずれか一方を行うために、ベースモジュールと協働して動作する電子機器と、を有する延長モジュール。 ベースモジュールは、少なくとも一つのトランスミッタアンテナ及び少なくとも一つのレシーバアンテナを備えた比抵抗の検層ツールを有する、請求項1から3のいずれか一項に記載の発明。 延長モジュールは、ベースモジュール内のトランスミッタアンテナの操作に応答して方位角に感度のある測定をするために、傾斜の付いたレシーバアンテナを有する、請求項1から4のいずれか一項に記載の発明。 方位角に感度のある測定は、傾斜の付いたアンテナと参照信号との間の位相シフト及び減衰の少なくともいずれか一方を有する、請求項5に記載の発明。 参照信号は、送信信号或いはもう一方のレシーバアンテナからの受信信号である、請求項6に記載の発明。 方位角の変化は、ジオステアリングの信号を決定するために使用される、請求項1から7のいずれか一項に記載の発明。 延長モジュールは、ベースモジュールの制御の下で動作する、請求項1から8のいずれか一項に記載の発明。 ベースモジュールは、電源が供給されると延長モジュールを自動的に検出して制御する、請求項9に記載の発明。 前記連結は、少なくとも一つの中間の管状体を介して生じる、請求項1から10のいずれか一項に記載の発明。 第二の延長モジュールをベースモジュールにさらに連結し、この第二の延長モジュールはベースモジュールの制御の下で動作する、請求項1又は2に記載の発明。 ネジ式コネクタ、圧入式コネクタ、及び溶接から成るグループの内の一つの取付け手段によって延長モジュールをベースモジュールに連結する、請求項1又は2に記載の発明。 延長モジュールは、ベースモジュールに連結されたときに異なる測定を提供するための動作可能な一組の交換可能の延長モジュールから成る、請求項1から13のいずれか一項に記載の発明。 一組の交換可能な延長モジュールは、異なる数のアンテナを備えたモジュールを有する、請求項14に記載の発明。 一組の交換可能な延長モジュールは、異なる方位を備えたアンテナを有するモジュールを有する、請求項14又は15のいずれかに記載の発明。 一組の交換可能な延長モジュールは、異なる送信電力を備えたトランスミッタのモジュールを有する、請求項14から16のいずれか一項に記載の発明。 一組の交換可能な延長モジュールは、異なる感度を備えたレシーバのモジュールを有する請求項14から17のいずれか一項に記載の発明。

Claim (excerpt)：

延長モジュールをベースモジュールに連結し、 層の比抵抗における方位角変化を検出すること、及び操縦することの少なくともいずれか一方を行うために、延長モジュール及びベースモジュールを協働して操作する、検層方法。

IPC (4)：

G01V 3/18 ,  G01S 13/88 ,  E21B 3/02 ,  E21B 4/00

FI (4)：

G01V3/18 ,  G01S13/88 G ,  E21B3/02 Z ,  E21B4/00

F-Term (19)：

2D129AB01 ,  2D129AB26 ,  2D129BA28 ,  2D129CB12 ,  2D129CB14 ,  2D129DA13 ,  2D129DC05 ,  2D129DC61 ,  2D129FA01 ,  2D129GA02 ,  2D129GA07 ,  2D129HB03 ,  5J070AA04 ,  5J070AB01 ,  5J070AD01 ,  5J070AE11 ,  5J070AF02 ,  5J070AH33 ,  5J070AH34

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• ボアホールの幾何学的特性を検査する検層方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-024229   Applicant：シュルンベルジェオーバーシーズエス.エイ.
• 層状累層の電気検層
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平10-503853   Applicant：シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ