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J-GLOBAL ID：200903020520029440

フォトリソグラフィ装置

Inventor：
アンドリュー ダブリュー マッカラウ

About アンドリュー ダブリュー マッカラウ


Applicant, Patent owner：
エスヴィージー リトグラフィー システムズ インコーポレイテッド

About エスヴィージー リトグラフィー システムズ インコーポレイテッド


Agent (1)： 矢野 敏雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000008016
Publication number (International publication number)：2000216086
Application date： Jan. 17, 2000
Publication date： Aug. 04, 2000
Summary：
【要約】【課題】 走査型フォトリソグラフィシステムにおいて走査方向に沿った線幅のばらつきを制御または低減させること。【解決手段】 走査型フォトリソグラフィ装置を、電磁波を供給する光源と、光源からの電磁波を受光するように配置されたレチクルステージと、レチクルステージ上に置かれたレチクルからの電磁波を受光するように配置された投影光学系と、投影光学系からの電磁波を受光するように配置された基板ステージと、レチクルステージおよび基板ステージに結合されたステージ制御部と、線量制御部とを有するように構成する。ステージ制御部はレチクルステージおよび基板ステージの動作を制御して、感光性レジスト被覆基板に走査型の露光を供給し、かつ走査方向を有し、線量制御部は露光線量を修正して、電磁波の所定の露光線量が走査方向に沿った位置の関数として感光性基板により受光されるように構成する。
Claim (excerpt)：
補正露光線量を有する走査型フォトリソグラフィ装置において、電磁放射を供給する光源と、前記光源からの電磁放射を受光するように配置されたレチクルステージと、前記レチクルステージ上に置かれたレチクルからの電磁放射を受光するように配置された投影光学系と、前記投影光学系からの電磁放射を受光するように配置された基板ステージと、前記レチクルステージおよび基板ステージに結合されたステージ制御部と、線量制御部とを有し、前記ステージ制御部は前記レチクルステージおよび基板ステージの動作を制御して、感光性レジスト被覆基板を走査方向に従って走査露光し、前記線量制御部は露光線量を修正して、電磁放射の所定の露光線量が走査方向に沿った位置の関数として感光性基板により受光されるようにし、これにより走査方向の線幅のばらつきが低減される、ことを特徴とする走査型フォトリソグラフィ装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/22
FI (3)：
H01L 21/30 518 ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 516 D
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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