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J-GLOBAL ID：200903020520797277

CVD成膜装置及びCVD成膜方法

Inventor： 浜 研一 ,  鹿毛 剛 ,  荒木 智幸 ,  小林 巧
Applicant, Patent owner： 三菱商事プラスチック株式会社 ,  株式会社ユーテック
Agent (1)： 柳瀬 睦肇 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000152872
Publication number (International publication number)：2001335947
Application date： May. 24, 2000
Publication date： Dec. 07, 2001
Summary：

【要約】【課題】 容器内に原料ガスを導入する際に短時間で原料ガスの流量を一定に制御できるCVD成膜装置及びCVD成膜方法を提供する。【解決手段】 本発明に係るCVD成膜装置は、ペットボトル7の内側にDLC膜を成膜する装置である。この装置は、ペットボトルの外側を囲むように配置された外部電極3と、この外部電極内に配置され、ペットボトルの内部に配置される内部電極9と、ペットボトルの内側にDLC膜を成膜する時に、マスフローコントローラー19で一定流量に制御された炭化水素ガスをペットボトルの内部に導入する導入経路と、DLC膜を成膜する時以外に、マスフローコントローラー19で一定流量に制御された炭化水素ガスを外部電極3の外側に流して待機させておく待機経路と、外部電極内の真空排気を行うフロー用真空ポンプ21と、を具備する。

Claim (excerpt)：

容器の内側に薄膜を成膜するCVD成膜装置であって、容器の外側を囲むように配置された外部電極と、この外部電極内に配置され、容器の内部に配置される内部電極と、容器の内側に薄膜を成膜する時に、マスフローコントローラーで一定流量に制御された原料ガスを容器の内部に導入する導入経路と、上記薄膜を成膜する時以外に、上記マスフローコントローラーで一定流量に制御された原料ガスを外部電極の外側に流して待機させておく待機経路と、上記外部電極内の真空排気を行うフロー用真空排気手段と、上記外部電極に接続されたマッチングボックスと、このマッチングボックスに接続された高周波電源と、を具備することを特徴とするCVD成膜装置。

IPC (2)：

C23C 16/509 ,  B65D 23/02

FI (2)：

C23C 16/509 ,  B65D 23/02 Z

F-Term (14)：

3E062AA09 ,  3E062AC02 ,  3E062JA01 ,  3E062JA07 ,  3E062JB24 ,  4K030AA09 ,  4K030BA28 ,  4K030CA07 ,  4K030CA15 ,  4K030EA06 ,  4K030FA03 ,  4K030HA15 ,  4K030JA05 ,  4K030KA41