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J-GLOBAL ID:200903020522861606

撮像装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 谷 義一 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993331779
Publication number (International publication number):1995191256
Application date: Dec. 27, 1993
Publication date: Jul. 28, 1995
Summary:
【要約】【目的】 ビューファインダ内における注視点の位置と主被写体の位置が一致しなくなった場合にも、自動焦点制御(AF)等の各種制御を的確に実行し得るよう構成した撮像装置を提供する。【構成】 視線検出装置EDの出力に基づいて設定された被写体追尾領域内で上記の各種制御を行うための制御信号が不十分な場合、被写体追尾領域の大きさを上記の各種制御が可能となるように設定し、それに基づいてAF等の制御を行う。【効果】 撮影者の注視点近傍で高周波成分値を監視しながら制御対象領域をできるだけ小さくすることにより、撮影者の意図しない被写体に合焦してしまう、いわゆる遠近競合を未然に防止することができる。撮影者の注視点位置で高周波成分値がAF制御不可能な場合にそれが可能となるレベルに到達するまで、制御対象領域を拡大し、合焦の可能性を高めることができる。
Claim (excerpt):
ビューファインダを備えた撮像装置において、前記ビューファインダ内における注視点を検出する注視点検出手段と、検出された前記注視点を含む所定領域を制御対象領域として設定する制御枠設定手段と、前記制御対象領域内における表示画像に予め定めた処理を施し、特定信号を抽出する信号処理手段と、抽出された前記特定信号に基づいて、前記制御対象領域の大きさ、および/または、位置を変化させる領域制御手段とを具備したことを特徴とする撮像装置。
IPC (5):
G02B 7/28 ,  G03B 13/02 ,  G06T 1/00 ,  G11B 5/00 ,  H04N 5/232
FI (2):
G02B 7/11 N ,  G06F 15/64 325 J
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
  • 注視点選択装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-088631   Applicant:オリンパス光学工業株式会社
  • 磁気記録撮影装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-286550   Applicant:キヤノン株式会社
  • 特開平3-259670
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