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J-GLOBAL ID：200903020537000100

過酸化水素製造装置

Inventor： 島宗 孝之 ,  中島 保夫 ,  川口 善之 ,  西村 国男
Applicant, Patent owner： ペルメレック電極株式会社 ,  株式会社片山化学工業研究所
Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997321372
Publication number (International publication number)：1999158674
Application date： Nov. 21, 1997
Publication date： Jun. 15, 1999
Summary：

【要約】【課題】 海水から電解によりより安定に、効率良く過酸化水素を生成させて海水を処理できる過酸化水素製造装置を提供する。【解決手段】 ガス拡散電極によってガス室と電解液室とに分画し、前記電解液室を隔膜によって陽極室と陰極室に分けた三室法電解槽を使用し、陽極室内に陽極として不溶性金属電極を設置し、前記ガス拡散電極を陰極として有する陰極室に海水を流し、ガス室には空気を供給しながら電解を行い、海水中に過酸化水素を生成する電解装置であって、ガス室に供給された供給ガスの少なくとも一部が前記ガス拡散電極を通って海水中に拡散するようにしたことを特徴とする過酸化水素製造装置。前記ガス拡散電極が、電極物質を担持した親水層と撥水性のガス拡散層からなる半疎水性ガス拡散電極であり、前記電極物質が炭素及び/又は金である。

Claim (excerpt)：

ガス拡散電極によってガス室と電解液室とに分画し、前記電解液室を隔膜によって陽極室と陰極室に分けた三室法電解槽を使用し、陽極室内に陽極として不溶性金属電極を設置し、前記ガス拡散電極を陰極として有する陰極室に海水を流し、ガス室には空気を供給しながら電解を行い、海水中に過酸化水素を生成する電解装置であって、ガス室に供給された供給ガスの少なくとも一部が前記ガス拡散電極を通って海水中に拡散するようにしたことを特徴とする過酸化水素製造装置。

IPC (2)：

C25B 1/30 ,  C25B 9/00

FI (2)：

C25B 1/30 ,  C25B 9/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 過酸化水素発生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-029183   Applicant：三菱重工業株式会社
• 過酸化水素製造用電解槽及び過酸化水素の電解的製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-062685   Applicant：ペルメレック電極株式会社, デ・ノラ・ペルメレク・ソチエタ・ペル・アツィオーニ
• 特開昭56-152979