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J-GLOBAL ID:200903020543850493

防汚膜形成用組成物及び光学部品

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 佐藤 隆久
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996064089
Publication number (International publication number):1997255919
Application date: Mar. 21, 1996
Publication date: Sep. 30, 1997
Summary:
【要約】【課題】耐汚染性、耐擦傷性、耐溶剤性等に優れた防汚膜を形成することができる防汚膜形成用組成物、及びこのような防汚膜を有する反射防止フィルター等の光学部品を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を含有する防汚膜形成用組成物で防汚膜を形成する。Rf {COR1 -R2 -Si(OR3 )3 }j ...(1)但し、式中、Rf はパーフルオロポリエーテル基を示し、R1 は2価の原子又は基を示し、R2 はアルキレン基を示し、R3 はアルキル基を示し、jは1又は2である。
Claim (excerpt):
下記一般式(1)で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を含有する防汚膜形成用組成物。 Rf {COR1 -R2 -Si(OR3 )3 }j ...(1)(但し、式中、Rf はパーフルオロポリエーテル基を示し、R1 は2価の原子又は基を示し、R2 はアルキレン基を示し、R3 はアルキル基を示し、jは1又は2である。)
IPC (5):
C09D183/04 PMV ,  C03C 17/30 ,  C07F 7/18 ,  C09D 5/16 PQM ,  G02B 1/10
FI (7):
C09D183/04 PMV ,  C03C 17/30 A ,  C07F 7/18 Q ,  C07F 7/18 N ,  C07F 7/18 K ,  C09D 5/16 PQM ,  G02B 1/10 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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