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J-GLOBAL ID：200903020574927842
炭素または炭素を主成分とする被膜の形成方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000239277
Publication number (International publication number)：2001107246
Application date： Aug. 11, 1988
Publication date： Apr. 17, 2001
Summary：
【要約】【課題】 炭素または炭素を主成分とする被膜の密着性を改善する。【解決手段】反応室の内壁など不要箇所に付着した炭素または炭素を主成分とする被膜を水素及び酸素または弗化物気体をプラズマ化してエッチングし、続いてアルゴン等の不活性気体または水素をプラズマして反応室内を清浄した後、炭素または炭素を主成分とする膜を形成する。
Claim (excerpt)：
酸素のプラズマを発生して、炭素または炭素を主成分とする被膜を形成する装置の反応室内の不要部分に付着した炭素または炭素を主成分とする膜を除去し、前記酸素のプラズマを発生した後に、前記反応室内で不活性気体または水素のプラズマを発生させ、前記不活性気体または水素のプラズマを発生させた後に、前記反応室内で基板に炭素または炭素を主成分とする被膜を形成することを特徴とする炭素または炭素を主成分とする被膜の形成方法。
IPC (6)：
C23C 16/44
, C23C 16/26
, C23F 4/00
, G11B 5/84
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
C23C 16/44 J
, C23C 16/26
, C23F 4/00 A
, G11B 5/84 B
, H01L 21/205
, H01L 21/302 N
Cited by examiner (7)
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