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J-GLOBAL ID：200903020634386269

ハイドロタルク石型クレーの簡略化した製法

Inventor： アラカナンダ・バッタチャーヤ ,  マーク・ピー・カミンスキー
Applicant, Patent owner： アモコ・コーポレイシヨン
Agent (1)： 湯浅 恭三 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992218026
Publication number (International publication number)：1993246711
Application date： Aug. 17, 1992
Publication date： Sep. 24, 1993
Summary：

【要約】【目的】 支柱となる陰イオンとして、pH依存性で実質的にカーボネートを含まない無機陰イオンを含有する、ハイドロタルク石型クレーの簡略化されたかつ直接的な製法を提供する。【構成】 支柱となる陰イオンとして、pH依存性で実質的にカーボネートを含まない無機陰イオンを含有するハイドロタルク石型クレー;並びに、いくつかの2価及び3価金属イオン及びpH依存性で実質的にカーボネートを含まない硼素含有陰イオン及び遷移元素メタレートから上記のハイドロタルク石型クレーを製造する簡略化されたかつ直接的な製法を特徴とする。

Claim (excerpt)：

ハイドロタルク石型クレーの製法であって、Mg2+、Zn2+、Cu2+、Ni2+、Co2+、Mn2+及びFe2+よりなる群から選ばれる1種以上の2価の金属イオン並びにAl3+、Fe3+、Co3+、Mn3+及びCr3+よりなる群から選ばれる1種以上の3価の金属イオンを含有する溶液を、実質的にカーボネートを含まない溶液に加え、該溶液のpHは約6-14の間で選択的に選び、内位添加剤を含有させて混合物を形成し、そしてその後、この混合物から式:M2+2xM3+2(OH)4x+4An-2/n・ZH2O(式中、xは1.5-5であり、nは1-8であり、AはpH依存性の実質的にカーボネートを含まない無機陰イオンよりなる群から選ばれる1種以上の陰イオンであり、そしてZは0-約4である)の物質を回収することよりなる、約7.7オングストロームより大きいX線回折d(001)値を有する、上記のハイドロタルク石型クレーの製法。

IPC (6)：

C01B 33/20 ,  B01J 21/16 ,  C01F 7/00 ,  C01G 9/00 ,  C01G 31/00 ,  C07B 61/00 300

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特公昭47-032198
  
• 特開平2-104536
  
• 特許第4843168号