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J-GLOBAL ID：200903020656454748

ホトマスク

Inventor： 早野 勝也 ,  長谷川 昇雄 ,  寺澤 恒男
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993084293
Publication number (International publication number)：1994301192
Application date： Apr. 12, 1993
Publication date： Oct. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】 半透明位相シフトマスクを用いたパタン転写では、透明主パタンの周りにリング状に第2の光強度ピークが表われる。また、半透明大面積パタン内に不要な光強度ピークが現われる。この不要な光強度ピークを消失させ、主パタン以外の不要なパタンの転写を防止する。【構成】 主パタン7周辺又は内側に透明領域と同位相の透明補助パタン8を配置する。【効果】 主パタンの不要な光強度ピークを小さくすることができ、不要なパタンの転写を防止できた。

Claim (excerpt)：

少なくとも露光光に対して半透明な領域と、透明な領域を含み、上記半透明な領域と、透明な領域を通過する光の位相差がおよそ180°となるようにしたホトマスクにおいて、投影する主パタンに、透過光の位相差が透明領域と同じで、かつ透明な補助パタンを配置したことを特徴とするホトマスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027