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J-GLOBAL ID：200903020672811283

シリコーン粘着モジュレーターシステム及び硬化性の不粘着性組成物を調製するためのそれの使用

Inventor：
ディディエ ダレ

About ディディエ ダレ

, 
ジョン ホワイト

About ジョン ホワイト


Applicant, Patent owner：
ロディア・シミ

About ロディア・シミ


Agent (2)： 倉内 基弘 ,  風間 弘志
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003502088
Publication number (International publication number)：2005509046
Application date： Jun. 04, 2002
Publication date： Apr. 07, 2005
Summary：
発明は、基材上に裏表に接着された接着剤材料の取り外しを助成するように基材上に適用するように適応させた、新規な剥離調節用シリコーン組成物、及び硬化性剥離組成物(Si-H/Si-Vi)を調製するためのそれの使用に関する。発明は、調節力に関して極めて効率的でありかつ剥離シリコーンコーティング上に積層された接着剤材料の瞬間的な粘着性に対して負の作用を持たない接着性調整剤を提供することを目的とする。従って、発明は、下記をベースにした剥離調節用システムを提供する:下記のタイプ:MDViQ、MDViT、MMHexenylQ、又はMMAllyloxypropylQの反応性ポリオルガノシロキサン樹脂(A)の少なくとも一種96〜85重量部;下記のタイプ:MD'Q、MDD'Q、MDT'、MQ又はMDQの非反応性樹脂(B)の少なくとも一種4〜15重量部。発明は、また、線状ポリオルガノシロキサンを含有する剥離組成物を調製するための調節システムの使用、該調節システム、ヒドロシリル化抑制剤、線状の架橋性ポリオルガノハロゲノシロキサン及びヒドロシリル化触媒にも関する。
Claim (excerpt)：
下記: (A)乾燥状態の固体形態で存在しかつシロキシ成分R3SiO1/2(成分M)及びSiO2(成分Q)及び/又はRSiO3/2(成分T)、そしてことによると成分R2SiO(成分D)の内の少なくとも2つの異なるタイプからなるポリオルガノシロキサン樹脂の少なくとも一種、Rラジカルは、同一であり又は異なりかつ有機ラジカルを表し、成分(M)の数/成分(Q)及び/又は(T)の数の比は0.6〜1であり、存在し得る成分(D)の数は樹脂100モル当たり0.5〜10であり; (B)乾燥状態の固体形態で存在しかつシロキシ成分R'3SiO1/2(成分M)及びSiO2(成分Q)及び/又はR'SiO3/2(成分T)、そしてことによると成分R'2SiO(成分D)の内の少なくとも2つの異なるタイプからなるポリオルガノシロキサン樹脂の少なくとも一種、R'ラジカルは、同一であり又は異なりかつ有機ラジカルを表し、成分(M)の数/成分(Q)及び/又は(T)の数の比は0.6〜1であり、存在し得る成分(D)の数は樹脂100モル当たり0.5〜10であり; (C)樹脂(A)及び(B)の混合物の少なくとも一種の溶媒又は少なくとも一種の希釈剤 をベースにする粘着モジュレーターシステムであり、 樹脂(A)が反応性でありかつ重量部で99〜75、好ましくは97〜80、なお一層好ましくは96〜85の量に相当し; 樹脂(B)が非反応性でありかつ重量部で1〜25、好ましくは3〜20、なお一層好ましくは4〜15重量部に相当する ことを特徴とする粘着モジュレーターシステム。
IPC (3)：
C08L83/07 ,  C08L83/05 ,  C09K3/00
FI (3)：
C08L83/07 ,  C08L83/05 ,  C09K3/00 R
F-Term (25)：
4J002CP042 ,  4J002CP141 ,  4J002CP143 ,  4J002DA117 ,  4J002EA016 ,  4J002EA036 ,  4J002EB026 ,  4J002ED026 ,  4J002EL066 ,  4J002FD157 ,  4J002FD203 ,  4J002FD206 ,  4J002GH00 ,  4J002GT00 ,  4J038DL052 ,  4J038DL101 ,  4J038DL102 ,  4J038JA01 ,  4J038JA07 ,  4J038KA04 ,  4J038KA06 ,  4J038KA09 ,  4J038MA10 ,  4J038NA10 ,  4J038PA19
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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