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J-GLOBAL ID:200903020691445700

超短光パルス発生装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 志賀 正武 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994063688
Publication number (International publication number):1995270833
Application date: Mar. 31, 1994
Publication date: Oct. 20, 1995
Summary:
【要約】【目的】 簡単な構成で、光パルス幅やピーク光パワー等の諸特性が安定した超短光パルスを発生するとともに、装置の立ち上げ時の入力条件の設定を容易にする。【構成】 この超短光パルス発生装置は、所定の光パルス幅を有する短光パルスを発生する短光パルス発生部10と、短光パルスの光パワーを増幅する光増幅器12と、光増幅器12から出射された短光パルスの光パルス幅を、光ソリトン圧縮効果によって時間的に狭窄化して超短光パルスとして出射する分散シフトファイバ13と、分散シフトファイバ13から出射された超短光パルスのピーク光パワーに応じた信号を出力する観測装置15と、観測装置15の出力信号を微分して、その微分結果に基づいて光増幅器12の増幅率を調整する微分回路16とからなる。
Claim (excerpt):
所定の光パルス幅を有する短光パルスを発生する短光パルス発生部と、前記短光パルスの光パワーを増幅する光増幅器と、該光増幅器から出射された短光パルスの光パルス幅を、光ソリトン圧縮効果によって時間的に狭窄化して超短光パルスとして出射する分散シフトファイバと、前記分散シフトファイバから出射された超短光パルスのピーク光パワーに応じた信号を出力する観測装置と、該観測装置の出力信号を微分して、その微分結果に基づいて前記光増幅器の増幅率を調整する微分回路とを具備することを特徴とする超短光パルス発生装置。
IPC (4):
G02F 1/35 501 ,  H01S 3/07 ,  H01S 3/094 ,  H01S 3/10

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