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J-GLOBAL ID：200903020702662270

プラズマエッチング方法およびそれに用いる装置

Inventor： 笹川 孝市 ,  川又 克英 ,  大山口 まき子
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993118060
Publication number (International publication number)：1994330355
Application date： May. 20, 1993
Publication date： Nov. 29, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 エッチング対象物の損傷、汚染を防止し、エッチング面内の均一性を向上させる。エッチング速度を向上させる。【構成】 アーク放電を起こしてプラズマを生成し、磁界印加手段3によりこのプラズマに磁界を与えて形状をシート状にする。このシート状プラズマ12を第1の空間、第1の空間よりも高い圧力に設定された第2の空間に順に導入し、第2の空間内でシート状プラズマ12の面方向と平行に設置されたエッチング対象物9をエッチングする。

Claim (excerpt)：

(イ)アーク放電を起こしてプラズマを生成する過程、(ロ)前記生成したプラズマに磁場を与えて該プラズマの形状をシート状に成形する過程、(ハ)前記シート状のプラズマを第1の空間、該第1の空間よりも高い圧力に設定された第2の空間に順に導入する過程、および(ニ)前記第2の空間内で前記シート状のプラズマの面方向と平行に設置されたエッチング対象物をエッチングする過程、からなることを特徴とするプラズマエッチング方法。

IPC (3)：

C23F 4/00 ,  H01L 21/302 ,  H05H 1/48