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J-GLOBAL ID：200903020729353970
二光子吸収材料
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：
谷 義一
, 阿部 和夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002186962
Publication number (International publication number)：2004029480
Application date： Jun. 26, 2002
Publication date： Jan. 29, 2004
Summary：
【課題】スペクトル、屈折率または偏光状態の変化を、効率的な二光子吸収を介して実現する。【解決手段】π共役系の分子両端に電子供与基を有する対称性C2hのπ共役分子において、π共役系をアリレン環、炭素-炭素二重結合または炭素-窒素二重結合のいずれかにより構成し、π共役系の分子両端付近のπ共役系内に窒素原子を含む。窒素原子間のπ共役系を拡大すること、または、π共役系の分子両端に電子の偏在を増大させることもできる。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
π共役系の分子両端に電子供与基を有する対称性C2hのπ共役分子において、
前記π共役系は、アリレン環、炭素-炭素二重結合または炭素-窒素二重結合のいずれかにより構成され、
前記π共役系の分子両端付近に窒素原子を含むことを特徴とする二光子吸収材料。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (4)：
2K002AB29
, 2K002BA01
, 2K002CA05
, 2K002HA22
Cited by examiner (1)
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三次非線形光学材料
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平4-252960
Applicant：宇部興産株式会社
Article cited by the Patent：
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